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哈尔滨工业大学化工与化学学院的甘阳教授和他指导的博士生袁原（论文第一作者）、手机张丹博士、手机杨春晖教授及机电学院的张飞虎教授，首次采用电子束背散射衍射（EBSD）对电解抛光后的多晶铝和单晶铝进行了定量的表面晶体学取向分析，并采用蔡司的SapphireSupra55场发射扫描电镜（FE-SEM）和原子力显微镜（AFM）对纳米图案的类型（type）和周期（size）进行了系统表征和量化分析，揭示了铝电解抛光表面纳米图案的类型和周期对于表面结构和晶体学取向的依赖性的规律。4）在两个或三个主取向的交界处，理想纳米图案类型和周期基本相同。

该研究得到了国家自然科学基金重点项目、主义国家重点研发计划项目等的资助。国产告别图7 在电解抛光过程中吸附分子在不同平台宽度平台–台阶表面的扩散和脱附行为差异的示意图。这一现象，手机已经引起了研究者对其在金属表面微纳工程、微纳模板加工、微纳电子学等领域应用的关注。

此外，理想在两个或三个主取向区域的交界处，大取向差的晶面的表面结构（平台宽度和台阶处的原子排列）很相似，所以导致纳米图案的类型基本相同。主义图6（a–c）[001]//ND主取向区域内3个取向差角相等但偏向不同方向的晶面的表面平台–台阶–扭折结构模型的正视图。

2）在同一主取向区域内，国产告别纳米图案类型和周期随着取向差角的改变呈现渐变性规律。

图1（a）电解抛光多晶Al样品的EBSD分析IPF图，手机（b）放大后的IPF图和IPF三角显示三个相邻的A、手机B、C晶粒及其所属的主取向区域和各自的晶面取向差角值，（c）三个晶粒的定位SEM形貌图像，相邻晶粒被晶界隔开并交于一点，（d–f）三个晶粒的AFM形貌图像和细节放大图及FFT分析图，（g–i）为对应AFM图中白线段的线轮廓分析图。其次，理想你应该给它们提供足够的运动空间，让它们健康的成长，同时也可以强健它们的体魄和意志力。

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